{rfName}
El

Indexat a

Citacions

20

Altmetrics

Anàlisi d'autories institucional

Emilio RayónAutor o coautor

Compartir

29 d’octubre de 2024
Publicacions
>
Article
No

Electrochemical oscillation of open circuit potential during immersion plating of copper on silicon

Publicat a: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. 152 (8): 537-541 - 2005-01-01 152(8), DOI: 10.1149/1.1946369

Autors:

Emilio Rayón; Ester Pastor; Vitali Parkhutik
[+]

Afiliacions

- Autor o coautor

Resum

A new type of oscillation emerging during copper immersion plating on silicon in solutions containing HF was observed. It is the spontaneous oscillation of open-circuit potential rather than the oscillations which have been observed on silicon under high polarization. The oscillation appears at less-noble potential and in a limited HF concentration range, and the amplitude is small. The behavior is affected by the type of dopant and dopant concentration and by the surface condition. The phenomenon is likely to be explained based on reactions occurring during immersion plating in the presence of fluoride ions: the oxide formation-breakdown-repair model. However, some results cannot be simply explained by the model. (c) 2005 The Electrochemical Society. [DOI: 10.1149/1.1946369] All rights reserved.
[+]

Paraules clau

Anodic-dissolutionCircuit oscillationsConcentration (process)Copper platingDopantsDoping (additives)Electrochemical oscillationsElectrodesElectrolytesFluorideImmersion platingInterfaceKineticsLayerMathematical modelsMechanismNetworks (circuits)Open circuitsP-siPolarizationPorous siliconSiliconSurface chemistry

Indicis de qualitat

Impacte bibliomètric. Anàlisi de la contribució i canal de difusió

El treball ha estat publicat a la revista JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY a causa de la seva progressió i el bon impacte que ha aconseguit en els últims anys, segons l'agència WoS (JCR), s'ha convertit en una referència en el seu camp. A l'any de publicació del treball, 2005, es trobava a la posició 8/21, aconseguint així situar-se com a revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoria Electrochemistry.

Independentment de l'impacte esperat determinat pel canal de difusió, és important destacar l'impacte real observat de la pròpia aportació.

Segons les diferents agències d'indexació, el nombre de citacions acumulades per aquesta publicació fins a la data 2026-04-02:

  • WoS: 8
  • Scopus: 12
[+]

Impacte i visibilitat social

Des de la dimensió d'influència o adopció social, i prenent com a base les mètriques associades a les mencions i interaccions proporcionades per agències especialitzades en el càlcul de les denominades "Mètriques Alternatives o Socials", podem destacar a data 2026-04-02:

  • L'ús d'aquesta aportació en marcadors, bifurcacions de codi, afegits a llistes de favorits per a una lectura recurrent, així com visualitzacions generals, indica que algú està fent servir la publicació com a base del seu treball actual. Això pot ser un indicador destacat de futures cites més formals i acadèmiques. Aquesta afirmació està avalada pel resultat de l'indicador "Capture", que aporta un total de: 10 (PlumX).
[+]

Anàlisi del lideratge dels autors institucionals

Aquest treball s'ha realitzat amb col·laboració internacional, concretament amb investigadors de: Japan.

[+]