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Emilio RayónAutor o Coautor

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29 de octubre de 2024
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Electrochemical oscillation of open circuit potential during immersion plating of copper on silicon

Publicado en: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. 152 (8): 537-541 - 2005-01-01 152(8), DOI: 10.1149/1.1946369

Autores:

Emilio Rayón; Ester Pastor; Vitali Parkhutik
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Afiliaciones

- Autor o Coautor

Resumen

A new type of oscillation emerging during copper immersion plating on silicon in solutions containing HF was observed. It is the spontaneous oscillation of open-circuit potential rather than the oscillations which have been observed on silicon under high polarization. The oscillation appears at less-noble potential and in a limited HF concentration range, and the amplitude is small. The behavior is affected by the type of dopant and dopant concentration and by the surface condition. The phenomenon is likely to be explained based on reactions occurring during immersion plating in the presence of fluoride ions: the oxide formation-breakdown-repair model. However, some results cannot be simply explained by the model. (c) 2005 The Electrochemical Society. [DOI: 10.1149/1.1946369] All rights reserved.
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Palabras clave

Anodic-dissolutionCircuit oscillationsConcentration (process)Copper platingDopantsDoping (additives)Electrochemical oscillationsElectrodesElectrolytesFluorideImmersion platingInterfaceKineticsLayerMathematical modelsMechanismNetworks (circuits)Open circuitsP-siPolarizationPorous siliconSiliconSurface chemistry

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia WoS (JCR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2005, se encontraba en la posición 8/21, consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Electrochemistry.

Independientemente del impacto esperado determinado por el canal de difusión, es importante destacar el impacto real observado de la propia aportación.

Según las diferentes agencias de indexación, el número de citas acumuladas por esta publicación hasta la fecha 2026-04-04:

  • WoS: 8
  • Scopus: 12
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Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2026-04-04:

  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 10 (PlumX).
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Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Este trabajo se ha realizado con colaboración internacional, concretamente con investigadores de: Japan.

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